Offset Mask

节点功能:对掩码进行空间变换,包括水平和垂直位移、旋转,以及处理边缘的不同方式。它支持批量处理和增量变换。

输入参数

参数名称说明
mask输入的单帧或多帧掩码图像。

输出参数

参数名称说明
mask处理后的偏移或旋转后的掩码 batch

控件参数

参数名称说明
x横向偏移距离(像素单位)。正值向右偏移,负值向左。
y纵向偏移距离(像素单位)。正值向下偏移,负值向上。
angle顺时针旋转角度(单位为度)。
duplication_factor扩展 mask 的重复次数,生成多个副本组成新 batch。
roll启用时使用 torch.roll 实现滚动式偏移(边界循环覆盖)。
incremental启用后 x、y 和 angle 将按帧数逐步累加(第 i 帧偏移量为 x*(i+1),角度为 angle*(i+1))。
padding_mode边界填充模式。选项包括: - empty: 用 0 填充 - border: 边界复制填充 - reflection: 镜像填充
  • x: 控制水平偏移量。
  • y: 控制垂直偏移量。


angle: 整数值,默认为0,范围-360到360,控制旋转角度。


duplication_factor: 控制掩码的复制次数。


roll参数用于控制掩码偏移时的边缘处理方式。这个参数决定了当掩码移动超出边界时,内容是如何"环绕"的。


incremental: 决定是否使用增量变换。如下,当设定x=300,第一张mask会向右偏移300像素,incremental开启后,第二张mask会在第一张的基础上再偏移300像素,相对于原始mask就是偏移600像素。


  • empty模式:新露出的区域简单地填充为零(黑色)
  • border模式:新露出的区域填充为边缘像素的值
  • reflection模式:新露出的区域填充为边缘区域的镜像反射