参数名称 | 说明 |
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mask | 输入的单帧或多帧掩码图像。 |
Offset Mask
节点功能:对掩码进行空间变换,包括水平和垂直位移、旋转,以及处理边缘的不同方式。它支持批量处理和增量变换。
输入参数
输出参数
参数名称 | 说明 |
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mask | 处理后的偏移或旋转后的掩码 batch |
控件参数
参数名称 | 说明 |
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x | 横向偏移距离(像素单位)。正值向右偏移,负值向左。 |
y | 纵向偏移距离(像素单位)。正值向下偏移,负值向上。 |
angle | 顺时针旋转角度(单位为度)。 |
duplication_factor | 扩展 mask 的重复次数,生成多个副本组成新 batch。 |
roll | 启用时使用 torch.roll 实现滚动式偏移(边界循环覆盖)。 |
incremental | 启用后 x、y 和 angle 将按帧数逐步累加(第 i 帧偏移量为 x*(i+1),角度为 angle*(i+1))。 |
padding_mode | 边界填充模式。选项包括: - empty: 用 0 填充 - border: 边界复制填充 - reflection: 镜像填充 |
- x: 控制水平偏移量。
- y: 控制垂直偏移量。
angle: 整数值,默认为0,范围-360到360,控制旋转角度。
duplication_factor: 控制掩码的复制次数。
roll参数用于控制掩码偏移时的边缘处理方式。这个参数决定了当掩码移动超出边界时,内容是如何"环绕"的。
incremental: 决定是否使用增量变换。如下,当设定x=300,第一张mask会向右偏移300像素,incremental开启后,第二张mask会在第一张的基础上再偏移300像素,相对于原始mask就是偏移600像素。
- empty模式:新露出的区域简单地填充为零(黑色)
- border模式:新露出的区域填充为边缘像素的值
- reflection模式:新露出的区域填充为边缘区域的镜像反射