optional_context_mask（可选上下文掩码）
是一个用于手动补充关键环境信息的高级参数。它的核心作用是：在主掩码（mask）定义的修复区域之外，额外标记需要保留的“上下文区域”，确保修复模型能参考这些关键环境信息，生成与原图更协调的结果。
例如示例中，修复原图中的玻璃有外界映射时，手动加入了周边环境的区域，确保修复的区域更加合理；通过示例的结果对比可以看出加入optional_context_mask的结果更加合理。
downscale_algorithm/upscale_algorithm模式说明
是图像修复过程中控制图像缩放质量的核心参数。这些算法决定了图像在预处理和输出阶段的缩放方式，直接影响最终修复质量。
默认：bicubic
| 算法模式 | 计算复杂度 | 适用场景 | 视觉特点 |
|---|---|---|---|
| nearest | ★☆☆☆☆ | 像素艺术/游戏纹理 | 锯齿状边缘 |
| bilinear | ★★☆☆☆ | 通用快速处理 | 轻微模糊 |
| bicubic | ★★★☆☆ | 照片修复(默认) | 细节保留 |
| lanczos | ★★★★☆ | 高质量放大 | 锐利边缘 |
| box | ★★☆☆☆ | 快速缩小 | 平均模糊 |
| hamming | ★★★☆☆ | 抗锯齿处理 | 平滑过渡 |
nearest和box模式处理下的图片偏锯齿状
mask_fill_holes：自动填充封闭蒙版中的空隙
extend_for_outpainting
开启后，会在四周扩展画布，为“往外画”创造空间。以原图为参考，按系数增加相应方向的额外边距；
例如 1.2 可能表示在该方向上添加约 20% 的可绘空间；实际数值请按可视结果微调（>1 增加，=1 不变）。
output resize to target size
控制输出图像的尺寸和格式
