TwoAdvancedSamplersForMask 是 TwoSamplersForMask 的高级版本,主要区别在于采样方式:
与基础版本不同,TwoAdvancedSamplersForMask 在每个步骤中对基础区域和遮罩区域进行顺序采样,而不是先完成所有基础区域采样再进行遮罩区域采样。
TwoAdvancedSamplersForMask中的采样几乎是同时进行的。
TwoSamplersForMask中采样则是按先后顺序进行的。
输入参数 | |
samples | 输入 latent 图像。 |
base_sampler | 用于非掩码区域的采样器。建议设置为风格一致、基础构图采样器,例如较平滑的 scheduler。 |
mask_sampler | 用于掩码区域的采样器。建议设置为细节清晰、适应 prompt 区域的小范围采样器。 |
mask | 二值掩码图像。值为 1 的区域使用 mask_sampler,其他区域使用 base_sampler。 |
输出参数 | |
LATENT | 区域融合采样后的 latent 图像。 |
控件参数 | |
seed | 随机数种子。控制采样一致性,设置为固定值可获得可复现结果。 |
steps | 采样器步数。 |
denoise | 去噪强度。 |
overlap_factor | 掩码边缘过渡重叠范围(像素)。增加此值可减缓两区域采样衔接不自然的问题,常设为 8~16。 |
TwoAdvancedSamplersForMask 是 TwoSamplersForMask 的高级版本,主要区别在于采样方式:
与基础版本不同,TwoAdvancedSamplersForMask 在每个步骤中对基础区域和遮罩区域进行顺序采样,而不是先完成所有基础区域采样再进行遮罩区域采样。
TwoAdvancedSamplersForMask中的采样几乎是同时进行的。
TwoSamplersForMask中采样则是按先后顺序进行的。
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mask_sampler | 用于掩码区域的采样器。建议设置为细节清晰、适应 prompt 区域的小范围采样器。 |
mask | 二值掩码图像。值为 1 的区域使用 mask_sampler,其他区域使用 base_sampler。 |
输出参数 | |
LATENT | 区域融合采样后的 latent 图像。 |
控件参数 | |
seed | 随机数种子。控制采样一致性,设置为固定值可获得可复现结果。 |
steps | 采样器步数。 |
denoise | 去噪强度。 |
overlap_factor | 掩码边缘过渡重叠范围(像素)。增加此值可减缓两区域采样衔接不自然的问题,常设为 8~16。 |
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与基础版本不同,TwoAdvancedSamplersForMask 在每个步骤中对基础区域和遮罩区域进行顺序采样,而不是先完成所有基础区域采样再进行遮罩区域采样。
TwoAdvancedSamplersForMask中的采样几乎是同时进行的。
TwoSamplersForMask中采样则是按先后顺序进行的。